基準工藝流程
基準工藝流程用來監察納米系統製造實驗中心(清水灣)內設備的狀態,以快速診斷和解決工藝過程中遇到的問題。同時,基準工藝流程亦提供有關設備能力的最新資訊,以及涉及材料的特性。報告內容涵蓋工藝流程、詳細工藝步驟和線內測試結構、單個器件以及標準電路的測試結果等,詳細報告每年更新。它可以協助用戶確立起始參考點,以繼續進行他們的研究項目。基準工藝流程工序以基本工序模組所組成,用戶可引用任何模組設計自己的工序。在基準工藝流程的掩膜版設計中,會預留位置讓用戶加入他們自己的工藝過程與基準工藝流程相同的設計。
基準工藝流程年報
CMOS Baseline | Non-CMOS Baseline |
---|---|
即將推出 | 即將推出 |